Llevando la luz ultravioleta al extremo

Por primera vez, un grupo de investigadores ha mapeado la emisión de EUV y ha desarrollado un modelo teórico que explica cómo la emisión depende de la forma tridimensional del plasma. Además, descubrieron una fuente sin explotar de luz EV, la cual podría ser útil para varias aplicaciones incluyendo litografía de semiconductores, el proceso usado para crear circuitos integrados.